Антиоксидантная очищающая маска для лица «Защита и восстановление» (50 мл) — купити в Україні

Детокс-эффект на все 100%*! Попробуй глиняную маску для любого возраста — оцени эффект очищения и детоксу кожи. Антиоксидантная маска Anew содержит несколько активных ингредиентов, которые нацелены на тщательный уход за кожей. Каолиновая глина отвечает за глубокое очищение кожи, без ощущения сухости и стянутости кожи, сужение пор. Салициловая кислота глубоко очищает кожу, не сушит и не стягивает ее. Сужает поры. Оризанол имеет мощный антиоксидантный эффект и формирует защитный UF-барьер. ПРИМЕНЕНИЕНанести на сухую очищенную кожу лица тонким слоем. Оставить на 15 минут, затем тщательно смыть теплой водой. Использовать 2-3 раза в неделю. Затем нанести увлажняющий крем или маску из серии ANEW. Избегать попадания на одежду: средство может окрашивать ткани. Содержит УФ-фильтр: бензофенон-3. СТРАНА-ПРОИЗВОДИТЕЛЬПольша*подтверждено клиническим исследованием EFF07-07 с участием 23 человек.